簡易檢索 / 檢索結果

  • 檢索結果:共1筆資料 檢索策略: "GaN".ekeyword (精準) and ckeyword.raw="蝕刻停止層"


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    研發新型蝕刻停止層製程用於精準控制氮化鎵垂直共振腔面射型雷射之共振腔長度
    • 電子工程系 /106/ 碩士
    • 研究生: 劉晏瑜 指導教授: 葉秉慧
    • 本論文使用新型氮化鎵鋁材料系統蝕刻停止層(Etch-stop layer)結構,成功開發兩階段乾蝕刻製程來控制深蝕刻(>1μm),對於單縱模操作的氮化鎵垂直共振腔面射型雷射(Vertical C…
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